Показати скорочений опис матеріалу

dc.contributor.authorShimanovich, D.
dc.date.accessioned2018-03-28T06:09:58Z
dc.date.available2018-03-28T06:09:58Z
dc.date.issued2014
dc.identifier.citationShimanovich D. Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces / D. Shimanovich // Современные инновационные технологии подготовки инженерных кадров для горной промышленности и транспорта 2014 = Contemporary Innovation Technique of the Engineering Personnel Training for the Mining and Transport Indusnry 2014 : сб. науч. тр. междунар. конф., 27-28 марта 2014 г., Украина, Днепропетровск / [орг. комитет: П. И. Пилов и др.] ; М-во образования и науки Украины, Гос. высш. учеб. заведение "Нац. горн. ун-т" [и др.]. — Днепропетровск : НГУ, 2014. — C. 328-330.ru_RU
dc.identifier.urihttp://ir.nmu.org.ua/handle/123456789/151811
dc.description.abstractAnalysis  of  internal  stresses  in  evaporated  aluminum  layers  formed  at  various  sputtering  regimes  is  demonstrated.  Dependences  of  internal  stresses  on  the  thickness of aluminum films deposited at various substrate temperatures and evaporation  rates are studied. ru_RU
dc.language.isoenru_RU
dc.subjectinternal stressesru_RU
dc.subjectaluminum layerru_RU
dc.subjectdepositionru_RU
dc.subjectsputtering regimesru_RU
dc.subjectmodulus of elasticityru_RU
dc.titleStudy of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfacesru_RU
dc.typeArticleru_RU
dc.identifier.udk620.1 ru_RU


Долучені файли

Thumbnail

Даний матеріал зустрічається у наступних фондах

Показати скорочений опис матеріалу