Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces

dc.contributor.author	Shimanovich, D.
dc.date.accessioned	2020-07-20T12:24:43Z
dc.date.available	2020-07-20T12:24:43Z
dc.date.issued	2014
dc.identifier.citation	Shimanovich D. Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces / D. Shimanovich // Сучасні інноваційні технології підготовки інженерних кадрів для гірничої промисловості і транспорту 2014 : зб. наук. пр. міжнар. конф., м. Дніпропетровськ, 27-28 бер. 2014 р. – Дніпропетровськ : НГУ, 2014. – С. 328-330.	ru_RU
dc.identifier.uri	http://ir.nmu.org.ua/handle/123456789/155665
dc.description.abstract	Analysis of internal stresses in evaporated aluminum layers formed at various sputtering regimes is demonstrated. Dependences of internal stresses on the thickness of aluminum films deposited at various substrate temperatures and evaporation rates are studied.	ru_RU
dc.language.iso	en	ru_RU
dc.publisher	Видавництво НГУ	ru_RU
dc.subject	internal stresses	ru_RU
dc.subject	aluminum layer	ru_RU
dc.subject	sputtering regimes	ru_RU
dc.title	Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces	ru_RU
dc.type	Article	ru_RU
dc.identifier.udk	620.1	ru_RU