Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces

Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://ir.nmu.org.ua/handle/123456789/155665

Назва:	Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces
Автори:	Shimanovich, D.
Ключові слова:	internal stresses;aluminum layer;sputtering regimes
Дата публікації:	2014
Видавництво:	Видавництво НГУ
Бібліографічний опис:	Shimanovich D. Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces / D. Shimanovich // Сучасні інноваційні технології підготовки інженерних кадрів для гірничої промисловості і транспорту 2014 : зб. наук. пр. міжнар. конф., м. Дніпропетровськ, 27-28 бер. 2014 р. – Дніпропетровськ : НГУ, 2014. – С. 328-330.
Короткий огляд (реферат):	Analysis of internal stresses in evaporated aluminum layers formed at various sputtering regimes is demonstrated. Dependences of internal stresses on the thickness of aluminum films deposited at various substrate temperatures and evaporation rates are studied.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу):	http://ir.nmu.org.ua/handle/123456789/155665
Розташовується у зібраннях:	Citep 2014

Файли цього матеріалу:

Файл	Опис	Розмір	Формат
Citep 2014-328-330.pdf		369,05 kB	Adobe PDF	Переглянути/Відкрити

Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.

DSpace JSPUI