Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
http://ir.nmu.org.ua/handle/123456789/155665
Назва: | Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces |
Автори: | Shimanovich, D. |
Ключові слова: | internal stresses;aluminum layer;sputtering regimes |
Дата публікації: | 2014 |
Видавництво: | Видавництво НГУ |
Бібліографічний опис: | Shimanovich D. Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces / D. Shimanovich // Сучасні інноваційні технології підготовки інженерних кадрів для гірничої промисловості і транспорту 2014 : зб. наук. пр. міжнар. конф., м. Дніпропетровськ, 27-28 бер. 2014 р. – Дніпропетровськ : НГУ, 2014. – С. 328-330. |
Короткий огляд (реферат): | Analysis of internal stresses in evaporated aluminum layers formed at various sputtering regimes is demonstrated. Dependences of internal stresses on the thickness of aluminum films deposited at various substrate temperatures and evaporation rates are studied. |
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): | http://ir.nmu.org.ua/handle/123456789/155665 |
Розташовується у зібраннях: | Citep 2014 |
Файли цього матеріалу:
Файл | Опис | Розмір | Формат | |
---|---|---|---|---|
Citep 2014-328-330.pdf | 369,05 kB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.