Shimanovich, D.D.Shimanovich2018-03-282018-03-282014Shimanovich D. Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces / D. Shimanovich // Современные инновационные технологии подготовки инженерных кадров для горной промышленности и транспорта 2014 = Contemporary Innovation Technique of the Engineering Personnel Training for the Mining and Transport Indusnry 2014 : сб. науч. тр. междунар. конф., 27-28 марта 2014 г., Украина, Днепропетровск / [орг. комитет: П. И. Пилов и др.] ; М-во образования и науки Украины, Гос. высш. учеб. заведение "Нац. горн. ун-т" [и др.]. — Днепропетровск : НГУ, 2014. — C. 328-330.http://ir.nmu.org.ua/handle/123456789/151811Analysis  of  internal  stresses  in  evaporated  aluminum  layers  formed  at  various  sputtering  regimes  is  demonstrated.  Dependences  of  internal  stresses  on  the  thickness of aluminum films deposited at various substrate temperatures and evaporation  rates are studied. eninternal stressesaluminum layerdepositionsputtering regimesmodulus of elasticityArticle620.1