Показати скорочений опис матеріалу
Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces
dc.contributor.author | Shimanovich, D. | |
dc.date.accessioned | 2020-07-20T12:24:43Z | |
dc.date.available | 2020-07-20T12:24:43Z | |
dc.date.issued | 2014 | |
dc.identifier.citation | Shimanovich D. Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces / D. Shimanovich // Сучасні інноваційні технології підготовки інженерних кадрів для гірничої промисловості і транспорту 2014 : зб. наук. пр. міжнар. конф., м. Дніпропетровськ, 27-28 бер. 2014 р. – Дніпропетровськ : НГУ, 2014. – С. 328-330. | ru_RU |
dc.identifier.uri | http://ir.nmu.org.ua/handle/123456789/155665 | |
dc.description.abstract | Analysis of internal stresses in evaporated aluminum layers formed at various sputtering regimes is demonstrated. Dependences of internal stresses on the thickness of aluminum films deposited at various substrate temperatures and evaporation rates are studied. | ru_RU |
dc.language.iso | en | ru_RU |
dc.publisher | Видавництво НГУ | ru_RU |
dc.subject | internal stresses | ru_RU |
dc.subject | aluminum layer | ru_RU |
dc.subject | sputtering regimes | ru_RU |
dc.title | Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces | ru_RU |
dc.type | Article | ru_RU |
dc.identifier.udk | 620.1 | ru_RU |
Долучені файли
Даний матеріал зустрічається у наступних фондах
-
Citep 2014 [91]