DSpace JSPUI
DSpace зберігає і дозволяє легкий і відкритий доступ до всіх видів цифрового контенту, включаючи текст, зображення, анімовані зображення, MPEG і набори даних
Дізнатися більше
Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
http://ir.nmu.org.ua/handle/123456789/151811| Назва: | Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces |
| Автори: | Shimanovich, D. |
| Ключові слова: | internal stresses;aluminum layer;deposition;sputtering regimes;modulus of elasticity |
| Дата публікації: | 2014 |
| Бібліографічний опис: | Shimanovich D. Study of internal stresses in aluminum layers evaporated on dielectric surfaces / D. Shimanovich // Современные инновационные технологии подготовки инженерных кадров для горной промышленности и транспорта 2014 = Contemporary Innovation Technique of the Engineering Personnel Training for the Mining and Transport Indusnry 2014 : сб. науч. тр. междунар. конф., 27-28 марта 2014 г., Украина, Днепропетровск / [орг. комитет: П. И. Пилов и др.] ; М-во образования и науки Украины, Гос. высш. учеб. заведение "Нац. горн. ун-т" [и др.]. — Днепропетровск : НГУ, 2014. — C. 328-330. |
| Короткий огляд (реферат): | Analysis of internal stresses in evaporated aluminum layers formed at various sputtering regimes is demonstrated. Dependences of internal stresses on the thickness of aluminum films deposited at various substrate temperatures and evaporation rates are studied. |
| URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): | http://ir.nmu.org.ua/handle/123456789/151811 |
| Розташовується у зібраннях: | Современные инновационные технологии подготовки инженерных кадров для горной промышленности и транспорта 2014, г. Днепропетровск, 27-28 марта : сб. науч. тр. междунар. конф. |
Файли цього матеріалу:
| Файл | Опис | Розмір | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 328-330.pdf | 383,27 kB | Adobe PDF |  Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.